随着材料科学的蓬勃发展，尤其是高水平的量子材料研究与应用对薄膜材料、二维材料的制备和高精度加工要求慢慢的升高。一套完整流程的薄膜制备与加工设施购置成本通常要在几百万到上千万元。此外，大型设备操作繁复，存放空间大、日常维护成本高，给科研人员带来了很大挑战。依赖于共享方案的科研平台由于设备预约周期长，会大大减慢科研进度。为了快速、低成本的实现高质量的材料制备与加工，让科研计划进入快车道。英国Moorfield Nanotechnology公司与多所名校以及获得诺贝尔奖的课题组长期合作，推出了一系列高性能台式设备, 专门用在所有薄膜材料的高质量制备和加工。该系列新产品具有体积小巧、快速制备样品、灵活配置方案等特点，一经推出即受到包括剑桥大学、帝国理工、英国物理实验室等科研单位的青睐。

  从多功能金属、绝缘材料溅射到有机物、金属热蒸发；从高质量石墨烯CVD快速制备到高质量碳纳米管CVD趋向生长；从样品、衬底的热处理到单层二维材料的软刻蚀与缺陷加工。Moorfield系列新产品已经获得欧洲用户的广泛认可，产品质量与性能可完全媲美大型设备，一些方面甚至远超大型设备。

  专为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列新产品包含磁控溅射、金属/有机物热蒸发系统。这些设备不仅体积小巧而且性能，能快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射、反应溅射、共蒸发功能也可在该系列新产品上实现。

  与诺贝尔奖课题组长期合作的技术结晶，可能是上快的石墨烯生长系统。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温，该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后能够迅速降温，正是因为这些条件可以让用户在30分钟内就可以获得高质量的石墨烯。nanoCVD具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。用户通过触屏做相关操作，更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。很适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。目前，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。

  诺贝尔奖课题组都在用的设备。石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。未解决目前微纳加工中常用的刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，nanoETCH系统对输出功率的分辨率可达毫瓦量，可实现二维材料超逐层刻蚀、层内缺陷制造，以及对石墨基材或衬底等的表面处理。

  Moorfield专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，不但可以满足从高真空到各种气氛的退火需求，还能对气压和温度来控制，从而为二维材料、基片等进行可控热处理提供重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。

  nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选不一样的配置能兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。

  Moorfield高性能台式薄膜制备与加工设施以超高质量、亲民的价格快速实现您的科研方案，想获取更多详情信息吗？还等什么，现在就联系我们吧！

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